產(chǎn)品資料
半導(dǎo)體膜厚測定用深紫外連續(xù)波激光器
產(chǎn)品名稱: 半導(dǎo)體膜厚測定用深紫外連續(xù)波激光器
產(chǎn)品型號(hào): CW 213nm
產(chǎn)品特點(diǎn): 半導(dǎo)體膜厚測定用深紫外連續(xù)波激光器連續(xù)波 · 213 nm 深紫外 · 半導(dǎo)體檢測 · 工業(yè)級(jí)5-500 mW · ±0.1 % 穩(wěn)定性 · 真空 ≤1×10?? Pa · 5 年壽命 · 即插即用
半導(dǎo)體膜厚測定用深紫外連續(xù)波激光器 的詳細(xì)介紹
半導(dǎo)體膜厚測定用深紫外連續(xù)波激光器
半導(dǎo)體膜厚測定用深紫外連續(xù)波激光器
一、產(chǎn)品定位
- 半導(dǎo)體檢測工業(yè)用：膜厚測定、缺陷掃描、UV-Vis 光譜、反射率
- 連續(xù)波 213 nm：深紫外 DUV，連續(xù)波，5-500 mW，±0.1 % 穩(wěn)定性
- 工業(yè)級(jí)：真空 ≤1×10?? Pa，0-180 ℃，工業(yè)級(jí)漂移
- Opt-Oxide CW 213nm：CW 連續(xù)波，213 nm，5-500 mW，即插即用
二、核心技術(shù)參數(shù)（CW 213nm）
| 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
|---|---|
| 波長 | 213 nm（深紫外 DUV） |
| 類型 | 連續(xù)波（CW） |
| 功率范圍 | 5 – 500 mW（連續(xù)可調(diào)） |
| 穩(wěn)定性 | ±0.1 %（1 h，恒溫） |
| 真空度 | ≤ 1×10?? Pa（真空版） |
| 大氣版 | 可選（內(nèi)置除塵窗） |
| 溫度范圍 | 0 – 180 ℃（全范圍） |
| 真空接口 | NW16（可轉(zhuǎn) NW25/NW40） |
| 電源 | DC 24 V 2 A（含 100-240 V 適配器） |
| 接口 | FC/SMA905 光纖（真空饋通） |
| 尺寸/重量 | Φ25×80 mm，0.28 kg |
| 壽命 | 5 年（連續(xù)運(yùn)行） |
三、功能亮點(diǎn)
- 213 nm 深紫外：DUV 連續(xù)波，適合 < 5 nm 超薄膜測定
- ±0.1 % 超高穩(wěn)定性：1 h 漂移 < 0.1 %，膜厚重復(fù)性 < 0.01 nm
- 5-500 mW 連續(xù)可調(diào)：5-500 mW 連續(xù)可調(diào)，適合不同工藝段
- ≤ 1×10?? Pa 真空兼容：真空腔直接安裝，無泄漏
- 0.28 kg 超輕：A5 底面積，可手提移動(dòng)，實(shí)驗(yàn)室即用
- 5 年壽命：連續(xù)波無磨損，5 年免維護(hù)
四、典型應(yīng)用系統(tǒng)
半導(dǎo)體膜厚測定┌─ 真空腔體 ─┐│ │激光← CW-213 ← 真空饋通 FC│ │└─ 光譜儀 ────┘- 真空度 ≤ 1×10?? Pa，213 nm 連續(xù)照射
- 光譜儀采集反射光譜，膜厚精度 ≤ 0.01 nm
五、實(shí)測數(shù)據(jù)（半導(dǎo)體驗(yàn)證）
- 真空：1×10?? Pa，25 ℃
- CW-213nm：
- 功率 100 mW（±0.1 %）
- 穩(wěn)定性 ±0.1 %（1 h）
- 壽命 5 年（連續(xù)運(yùn)行）
六、選型與配件
| 件號(hào) | 說明 |
|---|---|
| CW-213-VAC | 真空版（≤1×10?? Pa） |
| CW-213-AIR | 大氣版（內(nèi)置除塵窗） |
| CW-213-FC | FC 光纖接口（真空饋通） |
| CW-213-DRIVER | 24 V 驅(qū)動(dòng)器（含） |
一、產(chǎn)品定位
- 半導(dǎo)體檢測工業(yè)用：膜厚測定、缺陷掃描、UV-Vis 光譜、反射率
- 連續(xù)波 213 nm：深紫外 DUV，連續(xù)波，5-500 mW，±0.1 % 穩(wěn)定性
- 工業(yè)級(jí)：真空 ≤1×10?? Pa，0-180 ℃，工業(yè)級(jí)漂移
- Opt-Oxide CW 213nm：CW 連續(xù)波，213 nm，5-500 mW，即插即用
二、核心技術(shù)參數(shù)（CW 213nm）
| 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
|---|---|
| 波長 | 213 nm（深紫外 DUV） |
| 類型 | 連續(xù)波（CW） |
| 功率范圍 | 5 – 500 mW（連續(xù)可調(diào)） |
| 穩(wěn)定性 | ±0.1 %（1 h，恒溫） |
| 真空度 | ≤ 1×10?? Pa（真空版） |
| 大氣版 | 可選（內(nèi)置除塵窗） |
| 溫度范圍 | 0 – 180 ℃（全范圍） |
| 真空接口 | NW16（可轉(zhuǎn) NW25/NW40） |
| 電源 | DC 24 V 2 A（含 100-240 V 適配器） |
| 接口 | FC/SMA905 光纖（真空饋通） |
| 尺寸/重量 | Φ25×80 mm，0.28 kg |
| 壽命 | 5 年（連續(xù)運(yùn)行） |
三、功能亮點(diǎn)
- 213 nm 深紫外：DUV 連續(xù)波，適合 < 5 nm 超薄膜測定
- ±0.1 % 超高穩(wěn)定性：1 h 漂移 < 0.1 %，膜厚重復(fù)性 < 0.01 nm
- 5-500 mW 連續(xù)可調(diào)：5-500 mW 連續(xù)可調(diào)，適合不同工藝段
- ≤ 1×10?? Pa 真空兼容：真空腔直接安裝，無泄漏
- 0.28 kg 超輕：A5 底面積，可手提移動(dòng)，實(shí)驗(yàn)室即用
- 5 年壽命：連續(xù)波無磨損，5 年免維護(hù)
四、典型應(yīng)用系統(tǒng)
半導(dǎo)體膜厚測定┌─ 真空腔體 ─┐│ │激光← CW-213 ← 真空饋通 FC│ │└─ 光譜儀 ────┘- 真空度 ≤ 1×10?? Pa，213 nm 連續(xù)照射
- 光譜儀采集反射光譜，膜厚精度 ≤ 0.01 nm
五、實(shí)測數(shù)據(jù)（半導(dǎo)體驗(yàn)證）
- 真空：1×10?? Pa，25 ℃
- CW-213nm：
- 功率 100 mW（±0.1 %）
- 穩(wěn)定性 ±0.1 %（1 h）
- 壽命 5 年（連續(xù)運(yùn)行）
六、選型與配件
| 件號(hào) | 說明 |
|---|---|
| CW-213-VAC | 真空版（≤1×10?? Pa） |
| CW-213-AIR | 大氣版（內(nèi)置除塵窗） |
| CW-213-FC | FC 光纖接口（真空饋通） |
| CW-213-DRIVER | 24 V 驅(qū)動(dòng)器（含） |
相關(guān)產(chǎn)品
產(chǎn)品目錄
-
機(jī)械設(shè)備
- 磁選機(jī)
- 純水器
- 超聲波清洗器
- 壓力傳感器
- 流量控制器
- 乳缽機(jī)
- 水準(zhǔn)儀
- 變送器
- 臭氧檢測儀
- 色譜儀
- 拋光機(jī)
- 加熱器
- 張力計(jì)
- 混凝土檢測儀
- 加熱板
- 儲(chǔ)藏
- 壓力機(jī)
- 熱壓機(jī)
- 破碎機(jī)
- 振蕩器
- 電爐
- 分散機(jī)
- 切割機(jī)
- 往復(fù)泵
- 攪拌
- 色選機(jī)
- 擂潰
- 臭氧發(fā)生器
- 氣體發(fā)生器
- 混合器
- 移液器
- 高速相機(jī)
- 涂布機(jī)
- 鍍膜機(jī)
- 試驗(yàn)機(jī)
- 球磨機(jī)
- 均質(zhì)機(jī)
- 脫泡機(jī)
- 點(diǎn)焊機(jī)
- 干燥機(jī)
- 研磨機(jī)
- 密度儀
- 擂搗機(jī)
- 混合設(shè)備
- 除鐵機(jī)
- 電子
- 填充頭
- 裝置
- 點(diǎn)膠筆
- 傳感器
- 冷卻器
- 機(jī)器
- 壓鑄機(jī)
- 氧氣監(jiān)視器
- 系統(tǒng)
- 粉碎機(jī)
- 輪廓儀
- 測量針
- 過濾器
- 比色計(jì)
- 亮度計(jì)
- 噴霧干燥機(jī)
- 真空加熱裝置
- 蒸發(fā)器
- 化學(xué)合成反應(yīng)裝置
- 溫度濕度計(jì)
- 真空泵
- 循環(huán)排水器
- 化學(xué)反應(yīng)裝置
- 工業(yè)設(shè)備
聯(lián)系我們
聯(lián)系人：林經(jīng)理
地址：深圳市龍崗區(qū)龍崗街道新生社區(qū)新旺路和健云谷2棟B座1002
Email：akiyama_linkkk@163.com
郵編：
QQ：909879999
地址：深圳市龍崗區(qū)龍崗街道新生社區(qū)新旺路和健云谷2棟B座1002
Email：akiyama_linkkk@163.com
郵編：
QQ：909879999
在線客服