產(chǎn)品資料
半導(dǎo)體 ALD/ALE應(yīng)用深度除水凈化裝置
產(chǎn)品名稱: 半導(dǎo)體 ALD/ALE應(yīng)用深度除水凈化裝置
產(chǎn)品型號(hào): SiWOF-2000
產(chǎn)品特點(diǎn): 半導(dǎo)體 ALD/ALE應(yīng)用深度除水凈化裝置日本 STLab SiWOF-2000 是一臺(tái)面向“7×24 小時(shí)連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)"而設(shè)計(jì)的無(wú)氧氣體（N?/Ar/He 等）深度除水凈化裝置。把入口 3-10 ppm H?O 的普氮/普氬一口氣降到**< 1 ppb**（露點(diǎn) <-110 °C），并且能連續(xù)運(yùn)行 2 000 h 以上才需再生，主要用于半導(dǎo)體、OLED、鈣鈦礦電池、核聚變實(shí)驗(yàn)等對(duì)水分極度敏感的工藝
半導(dǎo)體 ALD/ALE應(yīng)用深度除水凈化裝置 的詳細(xì)介紹
半導(dǎo)體 ALD/ALE應(yīng)用深度除水凈化裝置
半導(dǎo)體 ALD/ALE應(yīng)用深度除水凈化裝置
日本 STLab SiWOF-2000 是一臺(tái)面向“7×24 小時(shí)連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)"而設(shè)計(jì)的無(wú)氧氣體（N?/Ar/He 等）深度除水凈化裝置。把入口 3-10 ppm H?O 的普氮/普氬一口氣降到**< 1 ppb**（露點(diǎn) <-110 °C），并且能連續(xù)運(yùn)行 2 000 h 以上才需再生，主要用于半導(dǎo)體、OLED、鈣鈦礦電池、核聚變實(shí)驗(yàn)等對(duì)水分極度敏感的工藝線。
? 核心賣(mài)點(diǎn)
- 長(zhǎng)期免維護(hù)——連續(xù)除水 2 000 h（實(shí)際考核 2 500 h）后 H?O 出口才升到 10 ppb，停機(jī)再生一次只需 8 h
- < 1 ppb 出口保證——新填料初始值 ≤ 0.5 ppb，客戶可任選 1 ppb 報(bào)警點(diǎn)
- 真正無(wú)氧——整個(gè)流路 316L EP + VCR 金屬密封，無(wú)橡膠管，O? 增量 < 0.1 ppb
- 雙塔 Hot-Swap——一塔工作一塔待機(jī)，切換過(guò)程出口水分波動(dòng) < 5 ppb
- 在線再生——無(wú)需拆罐，閉環(huán)抽真空 + 加熱吹掃，現(xiàn)場(chǎng) 8 h 完成
- 數(shù)據(jù)完整——內(nèi)置 32 GB 記錄，Modbus/以太網(wǎng)實(shí)時(shí)輸出，滿足 SEMI S2 審計(jì)
?? 性能參數(shù)（SiWOF-2000 標(biāo)準(zhǔn)型）
| 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
|---|---|
| 處理氣體 | N?、Ar、He、混合稀有氣體（無(wú)氧） |
| 流量范圍 | 30-2 000 mL/min（1.8-120 L/h） |
| 入口水分 | ≤ 10 ppm（露點(diǎn) -60 °C） |
| 出口水分 | ≤ 1 ppb（露點(diǎn) <-110 °C） |
| 出口氧分 | 增加 < 0.1 ppb（實(shí)測(cè) 0.03 ppb） |
| 連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn) | ≥ 2 000 h（10 ppb 突破為再生信號(hào)） |
| 再生耗時(shí) | 8 h（200 °C 真空抽掃 + 高純 N? 冷卻） |
| 吸附劑 | Si-Al 復(fù)合分子篩 + 金屬催化劑 |
| 管路材質(zhì) | 316L EP，Ra ≤ 0.25 µm，VCR 金屬墊片 |
| 泄漏率 | He ≤ 1×10?11 Pa·m3/s |
| 壓力損失 | 0.05-0.15 MPa（與流量相關(guān)） |
| 電源 | AC 100-240 V 300 W（再生時(shí) 600 W） |
| 尺寸/重量 | 430 × 450 × 220 mm（4U 機(jī)架）≈28 kg |
| 通信 | RS-485（Modbus RTU）+ 以太網(wǎng)（TCP/HTTP） |
| 數(shù)據(jù)存儲(chǔ) | 32 GB SD 卡，CSV 格式，≥ 5 年 |
| 報(bào)警 | 出口 H?O > 1 ppb、溫度異常、壓力異常繼電器輸出 |
?? 雙塔工作流程
- A 塔工作——B 塔待機(jī)加熱抽空（前 6 h）→ 高純 N? 冷卻（后 2 h）
- 自動(dòng)切換——當(dāng) A 塔出口 H?O = 10 ppb，PLC 0.1 s 切到 B 塔，出口波動(dòng) < 5 ppb
- 循環(huán)使用——單塔壽命 2 000 h，兩塔交替實(shí)現(xiàn)理論無(wú)限連續(xù)
?? 典型應(yīng)用
- 半導(dǎo)體 ALD/ALE： gate 氧化物界面 H?O < 1 ppb，降低 VT 漂移
- OLED 蒸鍍：防止有機(jī)層水解，提高發(fā)光效率 8 %
- 鈣鈦礦太陽(yáng)能電池：涂布前 N? 凈化，效率重復(fù)性 ↑ 15 %
- 核聚變裝置：托卡馬克吹掃氣 Ar 深度除水，降低等離子體雜質(zhì)
- 手套箱循環(huán)：與循環(huán)泵聯(lián)動(dòng)，箱內(nèi) H?O 穩(wěn)定 < 0.1 ppm
?? 可選型號(hào)
| 型號(hào) | 流量范圍 | 出口水分 | 接口 |
|---|---|---|---|
| SiWOF-500 | 5-500 mL/min | ≤ 1 ppb | 1/4" VCR |
| SiWOF-2000 | 30-2 000 mL/min | ≤ 1 ppb | 1/4" VCR |
| SiWOF-5000 | 0.2-5 L/min | ≤ 3 ppb | 3/8" VCR |
| SiWOF-Multi | 雙通道獨(dú)立，可同時(shí)供兩臺(tái)設(shè)備 |
??? 維護(hù)與驗(yàn)證
- 在線露點(diǎn)儀：內(nèi)置 TDLAS 傳感器，0.1 ppb 分辨率，可外接第二方冷鏡儀比對(duì)
- 再生無(wú)需人工：PLC 自動(dòng)抽真空→升溫→吹掃→冷卻，一鍵啟動(dòng)
- 年度備件：僅需更換再生排氣過(guò)濾器（PTFE，0.1 µm），5 分鐘完成
- 審計(jì)文件：提供 SPC 趨勢(shì)、再生記錄、粒子增量報(bào)告，符合 SEMI F57 & Gaseous Standards
? 一句話總結(jié)
STLab SiWOF-2000 是“長(zhǎng)期不斷電"的**< 1 ppb 除水站**：2 000 h 連續(xù)運(yùn)行、8 h 在線再生、雙塔零波動(dòng)，為半導(dǎo)體/OLED/核聚變等無(wú)氧超干工藝提供水分 < 1 ppb、氧增量 < 0.1 ppb的7×24 凈化氮/氬，是日本本土 7 nm 廠、EUV 實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)超干氣源后端。
相關(guān)產(chǎn)品
產(chǎn)品目錄
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機(jī)械設(shè)備
- 磁選機(jī)
- 純水器
- 超聲波清洗器
- 壓力傳感器
- 流量控制器
- 乳缽機(jī)
- 水準(zhǔn)儀
- 變送器
- 臭氧檢測(cè)儀
- 色譜儀
- 拋光機(jī)
- 加熱器
- 張力計(jì)
- 混凝土檢測(cè)儀
- 加熱板
- 儲(chǔ)藏
- 壓力機(jī)
- 熱壓機(jī)
- 破碎機(jī)
- 振蕩器
- 電爐
- 分散機(jī)
- 切割機(jī)
- 往復(fù)泵
- 攪拌
- 色選機(jī)
- 擂潰
- 臭氧發(fā)生器
- 氣體發(fā)生器
- 混合器
- 移液器
- 高速相機(jī)
- 涂布機(jī)
- 鍍膜機(jī)
- 試驗(yàn)機(jī)
- 球磨機(jī)
- 均質(zhì)機(jī)
- 脫泡機(jī)
- 點(diǎn)焊機(jī)
- 干燥機(jī)
- 研磨機(jī)
- 密度儀
- 擂搗機(jī)
- 混合設(shè)備
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- 電子
- 填充頭
- 裝置
- 點(diǎn)膠筆
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- 測(cè)量針
- 過(guò)濾器
- 比色計(jì)
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- 真空加熱裝置
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- 循環(huán)排水器
- 化學(xué)反應(yīng)裝置
- 工業(yè)設(shè)備
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